L'objectif du stage est la mise au point d'un procédé de photolithographie de résine transparente par Direct Imaging. L'intérêt de cette méthode de patterning grande surface réside dans la possibilité de fabriquer des motifs microniques sans utiliser de masquage mécanique. Cette dernière est particulièrement adaptée à l'impression de matrices de composants sur support souple (polymère par exemple).

Le travail consistera à imprimer des résines photosensibles positives et négatives par sérigraphie ou Slot-Die, à définir et mettre en place le protocole de développement de cette résine, et à évaluer les qualités des motifs obtenus à travers des caractérisations morphologiques (MEB, profilométrie mécanique). Une étude de l'influence de la tension de surface des substrats utilisés sera également menée à travers l'application de différents traitements plasmas.

#Nanotechnology

De formation Bac+5, vous êtes à la recherche d'un stage d'une durée de 6 mois qui vous permettra de finaliser votre cursus.

Compétences scientifiques : Sciences et génie des matériaux - Sciences et génie des procédés

Connaisances : Connaissance des matériaux polymères

Vous êtes reconnu(e) pour votre : sens de l'initiative, bonne capacité d'adaptation, force de proposition, rigueur,