Informations générales
Entité de rattachement
Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.
Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un socle de recherche fondamentale. Le CEA s'engage depuis plus de 75 ans au service de la souveraineté scientifique, technologique et industrielle de la France et de l'Europe pour un présent et un avenir mieux maîtrisés et plus sûrs.
Implanté au cœur des territoires équipés de très grandes infrastructures de recherche, le CEA dispose d'un large éventail de partenaires académiques et industriels en France, en Europe et à l'international.
Les 20 000 collaboratrices et collaborateurs du CEA partagent trois valeurs fondamentales :
• La conscience des responsabilités
• La coopération
• La curiosité
Référence
2023-26722
Description de la Direction
Le LETI dispose d'une plateforme Silicium, qui regroupe tous les moyens opérationnels (salle blanche, équipements et procédés), et dont la mission est d'assurer la fabrication technologique des dispositifs imaginés et conçus en interne, ou par des clients extérieurs, dans le domaine des micros et nanotechnologies.
Description de l'unité
Dans ce contexte, le Service Patterning du Département des Technologies Silicium doit maintenir un savoir-faire et une expertise technique élevée et constamment s'adapter et apporter des réponses techniques à toutes les sollicitations internes et externes. Le laboratoire Gravure/Stripping développe des procédés de gravure plasma, de stripping et de nettoyage humide post gravure pour répondre aux besoins des technologies 200mm/300mm en développement sur la plateforme Silicium.
Le laboratoire gravure/stripping souhaite renforcer son équipe de R&D avec un nouveau collaborateur en CDD pour travailler dans les domaines des procédés de gravure et de stripping par plasma.
Description du poste
Domaine
Technologies micro et nano
Contrat
CDD
Intitulé de l'offre
Ingénieur-chercheur en développement de procédés gravure et stripping par plasma H/F
Statut du poste
Cadre
Durée du contrat (en mois)
9 mois (renouvelables)
Description de l'offre
Vous travaillerez sous la responsabilité du chef de laboratoire journée.
Vous aurez pour missions principales :
- La réalisation des opérations technologiques gravure et stripping, qu’il s’agisse de procédés standards ou engineering, et la caractérisation associée,
- De mener un travail de R&D visant au développement et à la fiabilisation de procédés de gravure et de stripping par plasma pour des technologies avancées,
- De rendre compte des résultats de développement de gravure sous la forme de rapport techniques aux différentes parties prenantes : management, chef de projet et client interne et/ou externe.
- D'assurer la veille technologique du domaine et la valorisation du travail réalisé.
Profil du candidat
Pour être éligible, vous devrez être titulaire d’un diplôme d’ingénieur en physique, microélectronique, matériaux.
Une première expérience dans le milieu de la R&D est souhaitée.
Vous devrez faire preuve d’esprit d’équipe, d’initiative, de rigueur, d’autonomie et d’organisation.
Localisation du poste
Site
Grenoble
Localisation du poste
France, Auvergne-Rhône-Alpes, Isère (38)
Ville
GRENOBLE
Critères candidat
Langues
Anglais (Courant)
Demandeur
Disponibilité du poste
02/10/2023
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